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化學清洗及安全知識

2021-12-15

  了解化學清潔與安全。


  1.化學清洗。


  在半導體器件的工藝試驗中,化學清洗是將吸附在半導體、金屬材料和電器表面上的有害雜質或油漬去除。清潔法是利用化學試劑和有機助熔劑來溶解清潔物表面所吸附的雜質和油脂,或者用超聲波等物理手段將清洗物表面的雜質除去,加熱,抽真空,然后用大量高純度的冷熱去離子水沖洗,以獲得干凈的表面。


化學清洗


  2.須進行化學清洗。


  每個實驗程序都會遇到化學清洗問題?;瘜W工業的清潔質量嚴重影響試驗結果。如處理不當,就無法獲得試驗結果。所以,弄清化學清洗的作用和原理是很有意義的。我們都知道,半導體的重要性質之一就是對雜質很敏感。如果雜質含量是百萬分之一甚至是微量,都會影響半導體的物理性質。通過摻雜這種性質,可以生產出多種功能的半導體器件。但是,由于這種特性,在半導體器件的工藝試驗中卻遇到了困難。用過的化學品.生產工具.清潔用水等可成為有害雜質的污染源。即便是清潔的半導體晶片長時間暴露在空氣中,也會產生明顯的雜質污染?;瘜W性清潔就是去除有害的雜質,保持硅片表面的干凈。


  3.化學清洗范圍。


  化學法清洗主要包括三個方面:清洗硅片表面;二、清洗用過的金屬材料(例如:蒸餾電極用鎢絲.蒸發源用的鋁合金.鉻板用鉻等);以及清潔工具和器具(如金屬鉗.石英管.玻璃容器.石墨模具.塑料及橡膠制品等)。


  4.工業領域清洗的應用類別。


  1.化學工業化學工業化學清洗工業中的化學清洗主要包括以下方面:


  (1)新設備投入生產之前的清理。先清理軋屑,防銹油,絕緣碎屑等。


  (2)清洗設備的水垢層?;瘜W設備結垢類型復雜,如油漬.積碳.催化劑塵埃.副反應沉淀物.聚合物等,需要進行的清洗程序,清潔水垢層,保障正?;瘜W設備運行。


  (3)清洗水冷卻系統。清潔水垢.設備對水垢的腐蝕.其它系統帶來的沉積等。


  在金屬加工行業中進行化學清洗,常常要求在金屬加工之前和加工過程中去除表面的油污和氧化物。為了增強鍍層的附著力,須對電鍍件進行預處理和清洗,把它們粘在一起,把它們粘在一起,把它們粘在一起后,才能把它們粘在一起,以免漆面產生電化學腐蝕,增強涂層附著力。金屬件的玻璃體需預處理與清洗,冷軋鋼.熱軋鋼板.塑料加工等,均需化學清洗。


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